Proizvodi

Proučavali smo elektrodu s nanougljičnim filmom dopiranu dušikom s koncentracijom dušika nižom od 10,9 at% formiranu metodom neuravnoteženog magnetronskog raspršivanja (UBM).Sadržaj sp(3) u UBM raspršenom nanougljičnom filmu (N-UBM film) blago raste s povećanjem koncentracije dušika.Veza koja sadrži dušik nalik grafitu se smanjuje, a veza nalik piridinu se povećava s povećanjem koncentracije dušika.N-UBM film ima vrlo glatku površinu s prosječnom hrapavošću od 0,1 do 0,3 nm, koja je gotovo neovisna o koncentraciji dušika.N-UBM film elektroda pokazuje širi prozor potencijala (4,1 V) nego čista UBM film elektroda (3,9 V) zbog blagog povećanja sadržaja sp(3).Elektrokatalitička aktivnost raste s povećanjem koncentracije dušika, što ukazuje na to da je elektroaktivnost maksimalna kada je koncentracija dušika oko 10,9 at%, što je potvrđeno odvajanjem vrha Fe(CN)6(4-).Potencijali redukcije vodikovog peroksida (H2O2) na N-UBM film elektrodi pomaknuli su se za oko 0,1 V, a vršna struja H2O2 povećala se oko 4 puta.